製品

タンタルタングステン合金ディスク

タンタルタングステン合金ディスク

一次方程式:Ta - W

機能

一次方程式:

Ta - W

標準:

ASTMB708

純度:

99.9パーセントまたは99.95パーセント以上

サイズと公差:

円形タンタルスパッタリングターゲット:直径15mm–400mm x厚さ1mm–28mm

長方形タンタルスパッタリングターゲット:厚さ1mm〜40mmx幅最大1000mmx長さ最大3000mm

材料グレード:

R05255(Ta - 10W)、タンタル合金、90%タンタル、10%タングステン、真空アーク溶融の電子-ビーム炉、またはその両方。

R05252(Ta - 2.5W)、タンタル合金、97.5パーセントのタンタル、2.5パーセントのタングステン、電子-ビーム炉または真空アーク溶融、あるいはその両方。

タンタルタングステン合金ディスクの説明

リクエストに応じて、純粋なタンタル、タンタルタングステン合金、タンタルニオブ合金ディスクおよびスパッタリングターゲットを提供します。

タンタルタングステン合金は、通常、タンタル2.5パーセントのタングステンとタンタル10パーセントのタングステンです。 92.5パーセントのタンタルと7.5パーセントのタングステンであるTa7.5Wも利用できます。

SSCのタンタルタングステン合金は、バー、インゴット、リボン、ワイヤー、ショット、シート、およびホイルとしても利用できます。 カスタマイズされた部品もSSCで入手できます。

タンタルタングステン合金ディスクの化学組成

化学組成(パーセント)

学年

メインコンテンツ

不純物(パーセント以下)

Ta

Nb / W

Fe

Si

Ni

W

Mo

Ti

O

Ta2.5W

バル

2.0~3.0

0.005

0.005

0.002

3.0

0.01

0.002

0.015

Ta10W

バル

9~11

0.005

0.005

0.002

11

0.01

0.002

0.015

顧客の要求ごとのその他の詳細。 (N、C {{0}}。01パーセント以下、H 0.0015パーセント以下)

タンタルディスクの仕様

名前

タンタルスパッタリングターゲット

材料

R05200、R05400、R05252(Ta-2.5W)、R05255(Ta-10W)

再-結晶化

95パーセント分

粒度

40μm以下

表面仕上げ

最大16Rms またはRa0.4(RMS64以上)

平坦度

{{0}}。1mmまたは最大0.15パーセント

許容範囲

プラスすべての次元で/-0.010″

タンタルタングステン合金ディスクアプリケーションおよび関連産業

●スパッタリングターゲット

●化学処理における熱交換器と発熱体

●研究所&研究所

●エネルギー

●航空宇宙

●電子

●化学

化学的識別子

一次方程式

Ta - W

MDL番号

N/A

EC番号

N/A

Pubchem CID

57464935

IUPAC名

タンタル; タングステン

SMILES

[Ta]。[W]

InchI識別子

InChI =1 S / Ta.W

InchIキー

DZZDTRZOOBJSSG - UHFFFAOYSA - N

タンタルタングステン合金の特性(理論的)

複合式

Ta - W

外観

さまざまな形態の金属固体(プレート/シート、バー、ロッド、ストリップ、フォイル、ワイヤー、ディスク、スパッタリングターゲット)

融点

3005-3030度

沸点

N/A

密度

16.7-16.9 g / cm3

H2Oへの溶解度

N/A

電気抵抗率

0.0000176オーム-cm

抗張力

550 MPa(7.5パーセントW)

ビッカース硬度

245(7.5パーセントW)


人気ラベル: タンタルタングステン合金ディスク、中国、サプライヤー、購入、販売、中国製

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