インジウムスズ酸化物コーティングガラススライド

インジウムスズ酸化物コーティングガラススライドの説明

インジウムスズ酸化物でコーティングされたスライドガラスは、透明導電性酸化物（TCO）でコーティングされた基板の一種です。 一般的にITOコーティングガラスとして知られています。 ITOコーティングガラスは、優れた導電性と高透過性を備えています。 ITOガラスはN型半導体です。 ガラス基板上のインジウムスズ酸化物の均一な薄層は、それを非常に透明で低い表面抵抗にします。 ガラスシート上へのITOコーティングは、マグネトロンスパッタリング法により約300℃で完全真空状態で行われます。 これは片面コーティングであり、コーティングされた表面は導電性であり、別の表面は絶縁されています。 このアプローチでは、ITO層とホウケイ酸ガラス表面の間に二酸化ケイ素（SiO2）の不動態化層があります。 SiO2の標準的な厚さは25nmです。 パッシベーション層は、ITOコーティングされたガラス板の品質と寿命を向上させるために不可欠です。 ホウケイ酸ガラスまたはフロートガラスは、片面仕上げの基板です。 ITOコーティングされたスライドガラスの最高動作温度は摂氏350度です。

ITOコーティングされたガラス板は、主に正方形と長方形の形状にレーザーカットされ、円形にカスタマイズされることもあります。 ITOコーティングガラスカバースリップとも呼ばれます。 正方形の標準的なITOコーティングされたスライドガラスのサイズは、25mm、5 {{1 0}} mm、100mm、および200mmです。 長方形のITOスライドガラスは50mmx25mmと75mmx25mmです。 ITOコーティングされたガラス基板の最大製造サイズは405mmx305mmです。 従来のコーティングに使用されていたフロートガラスの標準的な厚さは、0.5mm、0.7mm、1.1mmです。 インジウムスズ酸化物の導電率は、導電率の逆数である表面抵抗に依存します。 ITOコーティングされたガラスシートの指定された表面抵抗率は、1平方あたり10〜100オームの範囲です。 550nmでのITOガラスカバースリップの透過率は85％を超えています。 ITOフィルムまたは層の厚さは50nmから200nm（500Åから2000Å）の範囲です。 表面粗さは仕様に応じて1-10nmですが、ITOの仕事関数は適切な洗浄後4。8-4。9eVです。 ITOウェーハとしても知られています。 導電性ガラスのかすみは1％未満です。

インジウムスズ酸化物被覆ガラススライドの特性

●透明度が高く導電性の高いコーティング

●可視から近赤外の波長範囲で優れた光透過率

●スパッタされたインジウムスズ酸化物薄膜

●高品質のガラス基板にコーティング

●SiO2パッシベーション層（CEC–SおよびCEC–Pシリーズ）

●マイクロラフネスが低い

●高い電気的表面抵抗の均一性

●赤外線波長の反射

●透過率の高い均一性

●優れた耐摩耗性とコーティング密着性

●レーザーまたはエッチングプロセスによる構造化が可能

インジウムスズ酸化物被覆ガラススライド用途および関連産業

●LCDおよびOLEDディスプレイ

●科学および研究用のITOコーティングされた顕微鏡スライド

●マイクロストラクチャリングアプリケーション

●加熱可能な顕微鏡テーブルとスライド

●医療技術のカバースリップ

●タッチスクリーンおよびタッチセンシティブディスプレイテクノロジー用の導電性コーティング

●電子機器用回路基板

●顕微鏡加熱ステージ

●有機LED用アノード（OLED）

●半透明の電極とコンデンサ

●EMF/EMI / EMC/RFIおよびHFシールドガラス

●デジタル移動体通信機器用フラットアンテナ

●導電性オブジェクトキャリアとカバーグラス

●宇宙用途向けの光学窓

●有機太陽電池

●反射型赤外線フィルター

●除氷窓用コーティング

●赤外線ミラー

化学的識別子

インジウムスズ酸化物被覆ガラススライド特性（理論的）

インジウムスズ酸化物コーティングガラススライドの健康と安全に関する情報

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